真空泵在半导体材料厂中扮演着至关重要的角色,其作用及原理如下:电话:15154777751
一、真空泵的作用
抽真空与维持洁净环境:
在半导体制造过程中,真空泵被广泛应用于抽真空操作,以维持洁净的工艺环境。这是保证工艺稳定性和产品质量的关键因素。
例如,在薄膜沉积、光刻、刻蚀等工艺环节,真空泵都发挥着不可替代的作用。
提供必要的工艺条件:
半导体材料需要进行高温处理和多次膜层沉积,这些过程需要在低压环境中进行。真空泵通过创造和维持低压环境,使得这些高温条件下的反应能够顺利进行。
保障生产安全与效率:
真空泵的应用还体现在对生产安全的保障上。通过有效排除有害气体和粉尘,真空泵为生产人员提供了更加安全的工作环境。
同时,真空泵的高效运行也提高了生产效率,降低了生产成本。
二、真空泵的原理
气体传输泵原理:
气体传输泵是指能使气体不断吸入和排出,从而达到抽气目的的一种真空泵。它主要包括变容真空泵和动量真空泵两类。
变容真空泵的工作原理是泵腔充满气体,其入口被周期性地隔离,然后将气体输送到出口。在气体排出前,一般会被压缩。
动量真空泵的工作原理则是将动量传递给气体分子,使气体由入口不断地输送到出口。
气体捕集泵原理:
气体捕集泵是指气体分子被吸附或冷凝而保留在泵内表面上的一种真空泵。它主要包括吸附泵、吸气剂泵、吸气剂离子泵和低温泵等类型。
这些泵通过不同的机制捕获和保留气体分子,从而实现抽真空的目的。
半导体领域常见的真空泵类型及其原理:
干泵:通过电机带动转子,将气体由一个排放口排出,以实现抽气功能。干泵在半导体制造中应用广泛,主要包括爪式真空泵、涡旋式真空泵、罗茨式真空泵和螺杆式真空泵等类型。
分子泵:利用高速旋转的转子把动量传输给气体分子,使之获得定向速度,从而被压缩至排气口后被前级抽走。分子泵在半导体领域也有较大规模的应用。
低温泵:利用低温表面冷凝、吸附气体而达到抽气目的。低温泵可以获得超真空环境,但由于是存储型泵,必须定期释放和再生。
综上所述,真空泵在半导体材料厂中具有抽真空与维持洁净环境、提供必要的工艺条件以及保障生产安全与效率等多重作用。其工作原理涉及气体传输和气体捕集两大类,具体类型包括干泵、分子泵和低温泵等。这些不同类型的真空泵在半导体制造过程中发挥着各自独特的作用。