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半导体材料厂中常用的真空泵类型主要包括干泵、分子泵和低温泵等。电话：15154777751
干泵：干泵是通过电机带动转子，将气体由一个排放口排出，以实现抽气功能的一种真空泵。它主要包括爪式真空泵、涡旋式真空泵、罗茨式真空泵和螺杆式真空泵等。干泵在半导体行业中应用广泛，主要用于进出样品腔（L/L腔���和工艺处理腔的抽真空。其中，多级罗茨泵和螺杆泵在半导体制造中尤为常见，它们具有抽速大、真空度高、稳定性好等优点。
分子泵：分子泵是利用高速旋转的转子，把动量传输给气体分子，使之获得定向速度，从而被压缩至排气口，后被前级抽走的一种真空泵。它主要包括涡轮分子泵和磁悬浮分子泵等。分子泵在半导体行业中主要用于提供高真空或超高真空环境，特别是在薄膜沉积和光刻等工艺中发挥着重要作用。
低温泵：低温泵是利用低温表面冷凝、吸附气体而达到抽气目的的一种真空泵。它可以获得超真空环境，但由于是存储型泵，必须定期释放和再生。在半导体行业中，低温泵主要用于一些对真空度要求极高的工艺环节。
在选择真空泵时，需要根据半导体制造过程中的具体工艺要求、工作环境以及预算等因素进行综合考虑。同时，还需要��意真空泵的性能指标，如抽速、真空度、稳定性等，以确保其能够满足半导体制造的需求。
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